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杨德仁
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杨德仁

Y
浙江
半导体材料学专家

长期从事半导体硅材料研究,提出了掺氮控制极大规模集成电路用直拉硅单晶微缺陷的思路,系统解决了氮关缺陷的基础科学问题;提出了微量掺锗控制晶格畸变的思路,发明了微量掺锗硅晶体生长系列技术,系统解决了相关硅晶体的基础科学问题;研究了纳米硅等的制备、结构和性能,成功制备出纳米硅管等新型纳米半导体材料

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商品参数
  • 姓名首字母:Y
  • 省份/城市:浙江
  • 专家类型:半导体材料学专家
商品描述

长期从事半导体硅材料研究,提出了掺氮控制极大规模集成电路用直拉硅单晶微缺陷的思路,系统解决了氮关缺陷的基础科学问题;提出了微量掺锗控制晶格畸变的思路,发明了微量掺锗硅晶体生长系列技术,系统解决了相关硅晶体的基础科学问题;研究了纳米硅等的制备、结构和性能,成功制备出纳米硅管等新型纳米半导体材料



杨德仁主要从事半导体硅材料研究。提出了掺氮控制极大规模集成电路用直拉硅单晶微缺陷的思路,系统解决了氮关缺陷的基础科学问题,促进了其在国际上的广泛应用;提出了微量掺锗控制晶格畸变的思路,发明了微量掺锗硅晶体生长系列技术,系统解决了相关硅晶体的基础科学问题,实现了实际应用;研究了纳米硅等的制备、结构和性能,成功制备出纳米硅管等新型纳米半导体材料,为其器件研究和应用提供了材料基础。

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